晶圓金屬和絕緣層鍍膜機

              晶圓級金屬和絕緣層鍍膜機采用團簇式結構,設置一個中心中轉室/一個進出料式和四個工藝室, 工件在上,濺射蒸發源在下。中心中轉室與周圍各室均有升降式插板閥做氣氛隔離,中心中轉 室設置有機械手,用于室間傳送工件。高真空泵為渦輪分子泵系統,前級和初真空泵配置羅茨 泵干泵機組。

              咨詢熱線:0755-27525981

              設備介紹:

              進出料室平時可開關倉門,用于進岀料,同時可安裝等離子體原和離子束源做工件離子清洗。 進出料室與外設自動化工件傳輸系統之間可以設置機械手來完成工件自動進出,非量產和實驗 設備可手動完成進出料。


              四個工藝室可分別配置濺射靶或蒸發源,每個工藝室可安裝六種材料的濺射靶和三種獨立垣蝸 的電子束蒸發源,下方中心可設置等離子體源或離子束源,可用于工件清洗/離子束輔助濺射和 PECVDo濺射靶可配置獨立的靶擋板,以避免靶材之間的污染。


              每個工藝室配備有工件轉動系統,可作零點方位定位控制,轉速每分鐘20轉到100轉。如有需 要,工件架可做上下升降,以滿足不同靶基距及其它工藝條件的要求。每個工藝室配備有獨立 的氣氛控制系統。


              設備適應產品:

              工件尺寸:12吋/8吋。

              可鍍金屬導電膜層:Au/Ag/Mo/Cu/Al/Cr/Ni/Zr/C 

              可鍍絕緣介質膜層:SiO2/Al2O3/SiN/Nb2O5/ZrO2 

              可鍍半導體膜層:Si/Ge/MoO/SiC

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